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期刊中文名:激光應(yīng)用雜志ISSN:1042-346XE-ISSN:1938-1387
該雜志國(guó)際簡(jiǎn)稱:J LASER APPL,是由出版商Laser Institute of America出版的一本致力于發(fā)布工程技術(shù)研究新成果的的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊。該雜志以材料科學(xué)綜合研究為重點(diǎn),主要發(fā)表刊登有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文文章、行業(yè)最新科研成果,扼要報(bào)道階段性研究成果和重要研究工作的最新進(jìn)展,選載對(duì)學(xué)科發(fā)展起指導(dǎo)作用的綜述與專論,促進(jìn)學(xué)術(shù)發(fā)展,為廣大讀者服務(wù)。該刊是一本國(guó)際優(yōu)秀雜志,在國(guó)際上有很高的學(xué)術(shù)影響力。
《Journal Of Laser Applications》是一本以English為主的未開放獲取國(guó)際優(yōu)秀期刊,中文名稱激光應(yīng)用雜志,本刊主要出版、報(bào)道工程技術(shù)-材料科學(xué)綜合領(lǐng)域的研究動(dòng)態(tài)以及在該領(lǐng)域取得的各方面的經(jīng)驗(yàn)和科研成果,介紹該領(lǐng)域有關(guān)本專業(yè)的最新進(jìn)展,探討行業(yè)發(fā)展的思路和方法,以促進(jìn)學(xué)術(shù)信息交流,提高行業(yè)發(fā)展。該刊已被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCI、SCIE收錄,為該領(lǐng)域相關(guān)學(xué)科的發(fā)展起到了良好的推動(dòng)作用,也得到了本專業(yè)人員的廣泛認(rèn)可。該刊最新影響因子為2.1,最新CiteScore 指數(shù)為3.2。
本刊近期中國(guó)學(xué)者發(fā)表的論文主要有:
Author: Hao, S. -Y.; Shen, Y. -M.; Zhang, X. -L.; Hao, Y. -L.; Huang, J. -L
Author: Gu, JianYu; Gao, Pan; Liang, JiaHao; Zhao, Xin; Yan, HuiXing; Yu, LongFei; Xu, JingMan; Jia, YaZhou
Author: Jia, Yazhou; Qu, Shilong; Chen, Yunjing; Zeng, Ruchuan; Ling, Qiang; Huang, Ning
Author: Zhou, Qijie; Wang, Haipeng; Qiu, Quanshui
The Journal of Laser Applications (JLA) is the scientific platform of the Laser Institute of America (LIA) and is published in cooperation with AIP Publishing. The high-quality articles cover a broad range from fundamental and applied research and development to industrial applications. Therefore, JLA is a reflection of the state-of-R&D in photonic production, sensing and measurement as well as Laser safety.
The following international and well known first-class scientists serve as allocated Editors in 9 new categories:
High Precision Materials Processing with Ultrafast Lasers
Laser Additive Manufacturing
High Power Materials Processing with High Brightness Lasers
Emerging Applications of Laser Technologies in High-performance/Multi-function Materials and Structures
Surface Modification
Lasers in Nanomanufacturing / Nanophotonics & Thin Film Technology
Spectroscopy / Imaging / Diagnostics / Measurements
Laser Systems and Markets
Medical Applications & Safety
Thermal Transportation
Nanomaterials and Nanoprocessing
Laser applications in Microelectronics.
| 《新銳期刊分區(qū)表》 2026年3月發(fā)布 |
綜述:否
TOP期刊:否
大類:工程技術(shù) 4區(qū)
小類:
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY OPTICS PHYSICS, APPLIED |
中科院SCI分區(qū):是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心科學(xué)計(jì)量中心的科學(xué)研究成果。期刊分區(qū)表自2004年開始發(fā)布,延續(xù)至今;2019年推出升級(jí)版,實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)版、升級(jí)版并存過(guò)渡,2022年只發(fā)布升級(jí)版,期刊分區(qū)表數(shù)據(jù)每年底發(fā)布。 中科院分區(qū)為4個(gè)區(qū)。中科院分區(qū)采用刊物前3年影響因子平均值進(jìn)行分區(qū),即前5%為該類1區(qū),6%~20%為2區(qū)、21%~50%為3區(qū),其余的為4區(qū)。1區(qū)和2區(qū)雜志很少,雜志質(zhì)量相對(duì)也高,基本都是本領(lǐng)域的頂級(jí)期刊。
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) |
學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q4
排名:356 / 472
百分位:
24.7 學(xué)科:OPTICS
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q3
排名:70 / 129
百分位:
46.1 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q3
排名:133 / 191
百分位:
30.6 學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q3
排名:319 / 473
百分位:
32.66 學(xué)科:OPTICS
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q3
排名:90 / 129
百分位:
30.62 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q3
排名:129 / 191
百分位:
32.72 |
JCR分區(qū):JCR分區(qū)來(lái)自科睿唯安公司,JCR是一個(gè)獨(dú)特的多學(xué)科期刊評(píng)價(jià)工具,為唯一提供基于引文數(shù)據(jù)的統(tǒng)計(jì)信息的期刊評(píng)價(jià)資源。每年發(fā)布的JCR分區(qū),設(shè)置了254個(gè)具體學(xué)科。JCR分區(qū)根據(jù)每個(gè)學(xué)科分類按照期刊當(dāng)年的影響因子高低將期刊平均分為4個(gè)區(qū),分別為Q1、Q2、Q3和Q4,各占25%。JCR分區(qū)中期刊的數(shù)量是均勻分為四個(gè)部分的。
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類:Physics and Astronomy 小類:Instrumentation | Q2 | 81 / 206 |
60% |
| 大類:Physics and Astronomy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q3 | 132 / 243 |
45% |
| 大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 178 / 318 |
44% |
| 大類:Physics and Astronomy 小類:Biomedical Engineering | Q3 | 209 / 342 |
39% |
該雜志是一本國(guó)際優(yōu)秀雜志,在國(guó)際上有較高的學(xué)術(shù)影響力,行業(yè)關(guān)注度很高,已被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCI、SCIE收錄,該雜志在材料科學(xué)綜合綜合專業(yè)領(lǐng)域?qū)I(yè)度認(rèn)可很高,對(duì)稿件內(nèi)容的創(chuàng)新性和學(xué)術(shù)性要求很高,作為一本國(guó)際優(yōu)秀雜志,一般投稿過(guò)審時(shí)間都較長(zhǎng),投稿過(guò)審時(shí)間平均>12周,或約稿,如果想投稿該刊要做好時(shí)間安排。版面費(fèi)不祥。該雜志近兩年未被列入預(yù)警名單,建議您投稿。如您想了解更多投稿政策及投稿方案,請(qǐng)咨詢客服。
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